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Preparación de la sección transversal de la oblea de silicio: minimizando el daño para revelar la verdadera estructura.
Las obleas de silicio son duras y frágiles, lo que hace que la preparación de secciones transversales sea particularmente sensible al astillamiento de los bordes, las microfisuras y los daños subsuperficiales. Estos defectos inducidos por la preparación pueden afectar el análisis posterior mediante microscopía óptica y microscopía electrónica de barrido (SEM).
Por lo tanto, es esencial un proceso de preparación controlado.
Para esta sección transversal de la oblea de silicio, la ruta de preparación incluyó:
• Discos de diamante DiaRe P120–P400 para rectificado plano
• Disco de molienda fina rígido POS + suspensión de diamante policristalino PD-WT de 9 μm
• Paño de pulido de seda SC + suspensión de diamante policristalino PD-WT de 3 μm
• Paño de pulido de poliuretano ZN + suspensión de sílice coloidal SO-A439 de 0,05 μm para pulido final
El uso de pulido con diamante en las etapas iniciales ayuda a mantener la planitud y reduce el riesgo de dañar el silicio, que es frágil. El pulido final con sílice coloidal elimina aún más los daños superficiales residuales y produce una sección transversal limpia para un examen microscópico fiable.
Una buena preparación de las obleas de silicio no consiste simplemente en conseguir un acabado de espejo, sino en preservar el estado real del material.
