In hochpräzisen Fertigungsindustrien wie der Halbleiter- und Leiterplattenherstellung ist die Probenvorbereitung seit jeher ein kritischer Schritt der Qualitätsprüfung – sie ist nicht nur zeit- und arbeitsaufwändig, sondern erfordert auch ein hohes Maß an technischem Fachwissen und Erfahrung der Bediener. Die Frage, wie eine schnelle, präzise und reproduzierbare Probenvorbereitung erreicht werden kann, stellt für viele Unternehmen, die Qualität und Effizienz steigern wollen, einen Engpass dar.

SemiPOL ermöglicht das präzise Schleifen und Polieren verschiedenster Materialien (optische Linsen, Halbleiterwafer, metallische und nichtmetallische Kristallphasen) für mikroskopische Analysen (REM, FIB, TEM usw.) mit dem Ziel einer Präzision im Mikrometerbereich. Es wurde primär für das parallele Schleifen und Polieren entwickelt und kann mit zusätzlichem Zubehör kombiniert werden, um das Schleifen und Polieren komplexer, unregelmäßiger Werkstücke und Oberflächen zu vereinfachen.