SemiPOL consente la rettifica e la lucidatura di precisione di diversi materiali (lenti ottiche, wafer di semiconduttori, fasi cristalline metalliche e non metalliche) per analisi microscopiche (SEM, FIB, TEM, ecc.), con l'obiettivo di raggiungere una precisione a livello di micron. Progettata principalmente per la rettifica e la lucidatura in parallelo, può essere combinata con accessori aggiuntivi per facilitare la rettifica e la lucidatura di pezzi e superfici complessi e irregolari.