O SemiPOL permite a retificação e o polimento precisos de diversos materiais (lentes ópticas, wafers semicondutores, fases cristalinas metálicas e não metálicas) para análise microscópica (MEV, FIB, MET, etc.), visando precisão em nível micrométrico. Projetado principalmente para retificação e polimento paralelos, pode ser combinado com acessórios adicionais para facilitar a retificação e o polimento de peças e superfícies irregulares complexas.