在半導體和印刷電路板等高精度製造業，樣品製備一直是品質檢測的關鍵步驟——它不僅耗時耗力，而且對操作人員的技術水平和經驗要求很高。如何實現快速、精確且可重複的樣品製備，已成為許多企業提升品質和效率的瓶頸。
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SemiPOL 可對各種材料（光學透鏡、半導體晶片、金屬和非金屬晶體相）進行精確研磨和拋光，適用於顯微分析（SEM、FIB、TEM 等），精度可達微米級。它主要用於平行研磨和拋光，也可與其他配件配合使用，以便更輕鬆地研磨和拋光複雜不規則的工件和表面。
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