純鎳

目的本應用指南的目的是製備和檢驗純鎳的微觀結構。純鎳樣品的製備方法為：先用 CT 250S 手動切割機進行切割，然後再用 FlexPress 自動鑲嵌機進行熱鑲嵌，最後用 Alpha 610 自動研磨拋光機進行研磨拋光。表面處理後，用 Marble 試劑對樣品進行腐蝕，以顯示其微觀結構，然後在光學顯微鏡下進行觀察。

基本指南：

切割： 1.選擇S20碳化矽（SiC）切割砂輪進行切割。具體砂輪規格應根據Trojan切割指南選擇。

安裝：為了方便觀察內部微觀結構，建議使用通用型熱鑲嵌化合物。

研磨： 1. 使用 P400 SiC 砂紙/砂輪進行粗磨，直至試樣表面平整且切削損傷層完全去除。 2. 粗磨後，使用 POS 砂輪配合 9 μm 鑽石懸浮液繼續研磨。

3.每次研磨步驟後，用水徹底沖洗和清潔樣本和樣品支架，以防止交叉污染。

拋光： 1.開始拋光前，必須徹底清潔拋光布、樣品架和雙手。每次拋光步驟後都應重複此清潔步驟。

2.不同鑽石顆粒尺寸的拋光盤不能混用，以免交叉污染。

3.拋光後，用酒精沖洗標本，並用吹風機吹乾表面，以去除殘留的水漬。

4.每次拋光步驟後，在金相顯微鏡下檢查試樣，以驗證刮痕尺寸是否與拋光顆粒尺寸相符，以及刮痕圖案是否隨機取向。

5.如果SC拋光後仍有殘留刮痕可見，則可將拋光時間延長3-5分鐘。

6.使用後，拋光布應使用流水和軟刷徹底清洗，瀝乾水分，並妥善存放。