Numéro de commande : | Description | Emballer |
06.05.310 | 50 nm | 500 ml |
06.05.320 | 50 nm | 1000 ml |
06.05.350 | 50 nm | 1.9 L |
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Suspension de polissage à base de silice colloïdale
5.0
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Informations de commande
Suspension de polissage à base de silice colloïdale SO-T401
Description du produit
Suspension de polissage de silice colloïdale amorphe fine de 0,05 µm, pH ~10,5.
Élimine la matière en douceur sans la déformer grâce à un polissage chimico-mécanique. Utilisé pour le polissage final de matériaux tels que le fer, l'acier et le titane.
Suspension de polissage à base de silice colloïdale SO-A439
Description du produit
Suspension de silice fine de 0,05 µm, pH ~10,2
Permet d'obtenir une excellente finition de surface grâce à un polissage chimico-mécanique. Utilisé pour le polissage final de matériaux tels que l'acier, l'aluminium, les semi-conducteurs, les circuits imprimés et autres.
Numéro de commande : | Description | Emballer |
06.07.310 | 50 nm | 500 ml |
06.07.320 | 50 nm | 1000 ml |
06.07.322 | 50 nm | 1.9 L |
Suspension de polissage à base de silice colloïdale SO-A539
Description du produit
Suspension de silice fine de 0,05 µm, pH ~10,2
Permet d'obtenir une excellente finition de surface grâce à un polissage chimico-mécanique. Utilisé pour le polissage final de matériaux tels que les métaux réfractaires, les minéraux et les céramiques.
Numéro de commande : | Description | Emballer |
06.07.522 | 50 nm | 500 ml |
06.07.520 | 50 nm | 1000 ml |
06.07.524 | 50 nm | 1.9 L |
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