Parameter | Spezifikation |
Produkt | SO A439 |
Typ | Poliersuspension aus kolloidalem Siliciumdioxid |
pH | ~10 |
Partikelgröße | 0,04 μm (40 nm) |
SiO₂-Gehalt | 40 % |
Spezifikation | 500 ml, 1 l |
SO-A439 Kolloidale Kieselsäure-Poliersuspension
Feine 0,05 µm Silicasuspension, pH ~10,2
Erzielt durch chemisch-mechanisches Polieren eine ausgezeichnete Oberflächengüte.
Wird zum Feinpolieren von Materialien wie Zinn, Aluminium, Halbleitern, Leiterplatten und anderen verwendet.
5.0
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Required Products
Total price discount:
Technische Spezifikationen
Bestellinformationen
Bestellnummer: | Beschreibung | Paket |
06.07.310 | 50 nm | 500 ml |
06.07.320 | 50 nm | 1000 ml |
06.07.322 | 50 nm | 1.9 L |
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