Paramètre | Spécification |
Produit | SO A439 |
Taper | Suspension de polissage à base de silice colloïdale |
pH | ~10 |
Taille des particules | 0,04 μm (40 nm) |
teneur en SiO₂ | 40% |
Spécification | 500 ml, 1 L |
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Suspension de polissage à base de silice colloïdale SO-A439
Suspension de silice fine de 0,05 µm, pH ~10,2
Permet d'obtenir une excellente finition de surface grâce à un polissage chimico-mécanique.
Utilisé pour le polissage final de matériaux tels que l'étain, l'aluminium, les semi-conducteurs, les circuits imprimés et autres.
5.0
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Required Products
Total price discount:
Spécifications techniques
informations de commande
Numéro de commande : | Description | Emballer |
06.07.310 | 50 nm | 500 ml |
06.07.320 | 50 nm | 1000 ml |
06.07.322 | 50 nm | 1.9 L |
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