Metallographisches Mikroskop CX43M

Optisches System	Optisches System mit unendlicher apochromatischer Korrektur
Beobachtung Rohr	30° Neigung, unendlich schwenkbares Dreiwege-Beobachtungsrohr, Pupillenabstandseinstellung: 50 mm ~ 75 mm, einseitige Dioptrieneinstellung: -2/+8 Dioptrien, zweistufiges Teilungsverhältnis R:T = 100:0 oder 50:50
Okular	Hoher Augenabstand, weites Sehfeld, Okular mit ebenem Bildfeld SWH10X23mm (Dioptrien einstellbar)
Objektiv	Plan-Halbverbund-Metallographie-Hellfeldobjektiv 5x NA 0,15, WD 15
	Plan Semi-Compound Metallographic Brightfield 10X Objektiv NA0.30,WD8.4
	Plan Semi-Compound Metallographic Brightfield 20X Objektiv NA0.45,WD3.0
	Plan Semi-Compound Metallographic Brightfield 20X Objektiv NA0.45,WD3.0
	Plan-Halbverbund-Metallographie-Hellfeldobjektiv 100x NA 0,90, WD 1,0 (optional)
Kodierter Linsenkonverter	Hochpräziser interner Positioniergeber mit 5-Loch-Hellfeldsensor und Helligkeitsspeicherfunktion. Der codierte Objektivwechsler integriert die Hardware-Einstellungen des Mikroskops mit der Bildanalysesoftware OMET. Der Bildschirm zeigt die Objektivvergrößerung an und passt den in der Software gespeicherten Kalibrierungswert beim Umschalten der Vergrößerung automatisch an. Dadurch werden Messfehler vermieden, die durch das Vergessen des Software-Vergrößerungsumschaltens entstehen könnten. Die Helligkeitsspeicherfunktion speichert die Beleuchtungsstärke bei Verwendung jedes Objektivs. Beim Wechsel zwischen verschiedenen Objektiven wird die Lichtintensität automatisch angepasst, um die Augenermüdung zu reduzieren und die Arbeitseffizienz zu steigern.
Grob- und Feinfokussierungsmechanismus	Doppelfunktionaler Transmissions-/Reflexionsrahmen mit einem niedrig positionierten, koaxialen Grob-/Feinfokussiermechanismus. Der Verstellbereich der Grobeinstellung beträgt 30 mm , und die Feineinstellung bietet eine Präzision von 0,001 mm . Es ist mit einer rutschfesten Spannungsregulierung und einem zufälligen oberen Anschlag ausgestattet. Der Rahmen verfügt außerdem über einen Mechanismus zur Verstellung der Plattformhöhe und unterstützt eine maximale Probenhöhe von 40 mm .
Bühne	Mechanische Doppelschicht-Bewegungsplattform, niedrige Handposition, koaxiale Verstellung in X- und Y-Richtung; Plattformfläche 240 x 175 mm, Arbeitsfläche: 135 x 125 mm, Glastisch: 101 x 101 mm, Verfahrbereich: 75 x 50 mm, kann mit reflektierender Metalltischplatte, transflektiver und multifunktionaler Glastischplatte ausgestattet werden.
Oberes Beleuchtungssystem	Adaptiver Weitbereichsspannungsbereich 100V-240V_AC50/60Hz, Reflektorkammer, einzelne Hochleistungs-10W-LED, warmweiß, Cora-Beleuchtung mit Sichtfeldblende und Aperturblende, mittig einstellbar.
Downlight-System	Adaptiver Weitbereichsspannungsbereich 100V-240V_AC50/60Hz, lichtdurchlässige Kammer, einzelne Hochleistungs-10W-LED, warmes Licht.
Spektiv	Ausschwenkbarer achromatischer Kondensor für Transmission (N.A0.9) mit variabler Blendenöffnung, mittig einstellbar.
Sonstiges Zubehör	Fotozubehör: 1x, 0,65x, 0,5x C-Mount, einstellbarer Fokus.
	4K-Hochauflösungs-Bildgebungssystem, USB3.0-Computerversion-Bildgebungssystem.
	Hochpräzisionsmikrometer mit einer Rasterweite von 0,01 mm.