Das inverse Metallmikroskop MV50 positioniert die Probe oberhalb des Objektivs und beobachtet sie von unten. Es findet breite Anwendung in der Stahl-, Automobil-, Maschinenbau- und Elektronikindustrie. Bei unebenen oder großen Probenoberflächen lässt sich die Probe einfach auf dem Objekttisch platzieren und ermöglicht so eine bequeme und schnelle Untersuchung. Das MV50 eignet sich für große und schwere Proben bis zu 5 kg und unterstützt Vergrößerungen von zehn- bis tausendfach. In Kombination mit metallurgischer Analysesoftware deckt es ein breites Spektrum an Anforderungen in der metallurgischen Bildgebung und Analyse ab und hilft Ihnen, die Auswirkungen verschiedener Prozesse auf Proben detailliert zu untersuchen.
Das inverse Metallmikroskop MV50 ist ein intelligentes, innovatives Produkt. Sein fortschrittlicheres modulares Design bietet höheren Bedienkomfort, und seine vielfältigen Beobachtungsmethoden erfüllen unterschiedliche Kundenbedürfnisse und stellen einen revolutionären Durchbruch für die Mikroskopie in Laboren und der metallografischen Materialanalyse dar.
Hauptfunktionen: Unterstützt Hellfeld-, Polarisationslicht-, Differenzialinterferenzkontrast- (DIC) und andere Beobachtungsmethoden.
Optisches System: Semiapochromatisches optisches System von Infinity.
Merkmale
Produktvorteile
Technische Spezifikationen
| Parameter | Spezifikation |
| Modell | MV50 Hellfeld / Polarisiertes Licht / DIC / Codiert / Lichtintensitätsspeicher / Bildschirmanzeige. |
| Optisches System | Optisches System mit Korrektur der chromatischen Aberration bei Unendlichkeit, 45 mm. |
| Trinokularer Betrachtungskopf | Trinokularer Betrachtungskopf mit Scharniermechanismus für Unendlichkeitsverstellung; Einstellung des Augenabstands: 50 mm–75 mm; einseitige Dioptrieneinstellung: ±5 Dioptrien; zweistufiges Lichtteilungsverhältnis R:T = 100:0 oder 0:100. |
| Okular | Hochpunkt-Weitfeld-Planokular CFI 10×/22mm (Dioptrien einstellbar). |
| Ziele | Hellfeld-Metallurgieobjektive (5×, 10×, 20×, 50×, 100×) 5× NA0,15 WD14,8; 10× NA0,3 WD8,5; 20× NA0,40 WD11,9; 50× NA0,75 WD3; 100× NA0,90 WD1 (100× ist optional). |
| Stand | Mit Polarisationsschlitz; mit einem LCD-Bildschirm, der die Helligkeit der Lichtquelle und die Objektivvergrößerung anzeigt. |
| Nasenstück | 5-Loch-Objektivrevolver für Hell-/Dunkelfeld (mit DIC-Steckplatz); der kodierte Revolver integriert die Mikroskop-Hardwareeinstellungen in die Bildanalyse-Software. Die Objektivvergrößerung wird auf dem Bildschirm angezeigt, und die in der Software gespeicherten Kalibrierungswerte werden beim Umschalten der Vergrößerung automatisch angepasst. Dadurch werden Messfehler vermieden, die durch das Vergessen des Umschaltens der Softwarevergrößerung entstehen könnten. |
| Grob-/Feinfokussierungsmechanismus | Niedrig positionierte, koaxiale Grob- und Feinfokussierung; Grobverstellweg 9 mm (6,5 mm nach oben und 2,5 mm nach unten von der Fokusebene); Feinfokussierungsgenauigkeit 0,002 mm; mit einem Spannungseinstellknopf zur Verhinderung einer Abdrift nach unten. |
| Bühne | Doppellagiger mechanischer Tisch; koaxiale X/Y-Verstellung in niedriger Position; Glastischplatte für Durchlicht und Auflicht. |
| Kameraanschluss | Foto-/Videozubehör: 0,7× C-Mount, Fokus einstellbar. |