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El microscopio metalúrgico invertido MV50 coloca la muestra sobre el objetivo y la observa desde abajo. Se utiliza ampliamente en las industrias siderúrgica, automotriz, de maquinaria y electrónica. Cuando la superficie de la muestra es irregular o la muestra es grande, se puede colocar fácilmente en la platina para una observación rápida y sencilla. El MV50 admite muestras grandes y pesadas de hasta 5 kg y ofrece aumentos de decenas a miles de veces. Utilizado junto con software de análisis metalúrgico, satisface todas las necesidades de análisis e imagen metalúrgica, lo que permite estudiar con mayor profundidad los efectos de diferentes procesos en las muestras.
El microscopio metalúrgico invertido MV50 es un producto inteligente e innovador. Su diseño modular avanzado ofrece mayor comodidad de uso, y sus múltiples métodos de observación satisfacen las diversas necesidades de los clientes, lo que supone un avance revolucionario para las aplicaciones de microscopía en el análisis de materiales en laboratorios y metalografía.
Funciones principales: Admite campos claros, luz polarizada, contraste de interferencia diferencial (DIC) y otros métodos de observación.
Sistema óptico: Sistema óptico semiapocromático infinito.
Características
Ventajas del producto
Especificaciones técnicas
| Parámetro | Especificación |
| Modelo | MV50 Campo claro / Luz polarizada / DIC / Codificado / Memoria de intensidad de luz / Visualización en pantalla. |
| Sistema óptico | Sistema óptico Infinity con corrección de aberración cromática, 45 mm. |
| Cabezal de visualización trinocular | Cabezal de visualización trinocular tipo bisagra Infinity; ajuste de la distancia interpupilar: 50 mm–75 mm; ajuste de dioptrías de un solo lado: ±5 dioptrías; relación de división de luz de dos posiciones R:T = 100:0 o 0:100. |
| Ocular | Ocular plano de campo amplio y punto de visión alto CFI 10×/22 mm (dioptrías ajustables). |
| Objetivos | Objetivos metalúrgicos de campo claro (5×, 10×, 20×, 50×, 100×) 5× NA0.15 WD14.8; 10× NA0.3 WD8.5; 20× NA0.40 WD11.9; 50× NA0.75 WD3; 100× NA0.90 WD1 (100× es opcional). |
| Pararse | Con ranura para polarizador; con pantalla LCD que muestra el brillo de la fuente de luz y el aumento del objetivo. |
| Muserola | Revólver portaobjetivos de campo claro/oscuro con codificación de 5 orificios (con ranura DIC); este revólver integra la configuración del hardware del microscopio con el software de análisis de imágenes. El aumento del objetivo se muestra en pantalla y los valores de calibración registrados en el software se ajustan automáticamente al cambiar el aumento, eliminando así los errores de medición causados por olvidar cambiar el aumento en el software. |
| Mecanismo de enfoque grueso/fino | Enfoque coaxial grueso y fino en posición baja; recorrido grueso de 9 mm (6,5 mm hacia arriba y 2,5 mm hacia abajo desde el plano focal); precisión de enfoque fino de 0,002 mm; con un mando de ajuste de tensión para evitar la deriva hacia abajo. |
| Escenario | Plataforma mecánica de doble capa; ajuste coaxial X/Y de baja posición; placa de cristal para luz transmitida y reflejada. |
| Puerto de cámara | Accesorio de fotografía/vídeo: montura C de 0,7×, enfoque ajustable. |